Simulation von Plasma-Beschichtungsprozessen : Ein neues...

Vakuum in Forschung und Praxis 2010 Vol. 22; Iss. 3

Simulation von Plasma-Beschichtungsprozessen : Ein neues Design-Werkzeug für die Vakuum- und Plasmatechnik

Andreas Pflug, Michael Siemers, Christoph Schwanke, Bernd Szyszka
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Volume:
22
Year:
2010
Language:
german
Pages:
4
DOI:
10.1002/vipr.201000419
File:
PDF, 346 KB
german, 2010
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