Kolloidchemische und oberflächenphysikalische Aspekte bei der Entwicklung von Kupfer-CMP-Slurries
A. Nennemann, L. Krüger, L. Puppe, G. PassingVolume:
75
Year:
2003
Language:
german
Pages:
2
DOI:
10.1002/cite.200390293
File:
PDF, 111 KB
german, 2003