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Etude de l'oxynitrure de silicium: Si2N2O: III. Recristallisation par traitement thermique de l'oxynitrure de silicium irradie aux neutrons rapides
M.I. Baraton, J.C. Labbe, P. Quintard, G. RoultVolume:
24
Year:
1989
Pages:
10
DOI:
10.1016/0025-5408(89)90104-9
File:
PDF, 461 KB
1989