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Characterization of Spatial Intrafield Gate CD Variability,...

IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing 2004 / 02 Vol. 17; Iss. 1

Characterization of Spatial Intrafield Gate CD Variability, Its Impact on Circuit Performance, and Spatial Mask-Level Correction

Orshansky, M., Milor, L., Hu, C.
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Volume:
17
Langue:
english
Journal:
IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing
DOI:
10.1109/TSM.2003.822735
Date:
February, 2004
Fichier:
PDF, 543 KB
english, 2004
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