[IEEE 2010 IEEE International Reliability Physics Symposium - Garden Grove (Anaheim), CA, USA (2010.05.2-2010.05.6)] 2010 IEEE International Reliability Physics Symposium - Comprehensive investigations of CoWP metal-cap impacts on low-k TDDB for 32nm technology application
Chen, F., Shinosky, M., Li, B., Christiansen, C., Lee, T., Aitken, J., Badami, D., Huang, E., Bonilla, G., Ko, T.-M., Kane, T., Wang, Y., Zaitz, M., Nicholson, L., Angyal, M., Truong, C., Chen, X., YaРік:
2010
Мова:
english
DOI:
10.1109/irps.2010.5488768
Файл:
PDF, 978 KB
english, 2010
File converter
Більше результатів пошуку
More benefits 
