Nanolithographie mit selbstorganisierenden Masken: Mit Polymeren lassen sich Metallcluster geordnet auf einem Substrat deponieren
Spatz, Joachim P., Möller, Martin, Ziemann, PaulVolume:
55
Language:
german
Journal:
Physik Journal
DOI:
10.1002/phbl.19990551213
Date:
December, 1999
File:
PDF, 2.02 MB
german, 1999