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Plasma Properties of a Negative Ion Plasma Reactive Ion...

Japanese Journal of Applied Physics 1999 / 7 Vol. 38; Iss. Part 1, No

Plasma Properties of a Negative Ion Plasma Reactive Ion Etching System

Keller, John H., Kocon, W. Walter
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Volume:
38
Langue:
english
Journal:
Japanese Journal of Applied Physics
DOI:
10.1143/JJAP.38.4280
Date:
July, 1999
Fichier:
PDF, 59 KB
english, 1999
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