Hochohmige Dünnschichtwiderstände auf der Basis von...

Hochohmige Dünnschichtwiderstände auf der Basis von amorphem sowie mikrokristallinem Silizium und Siliziumkarbid

Eck, S., Schier, M., Niewalda, G., Bolz, A., Schaldach, M.
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Volume:
39
Year:
1994
Language:
german
Journal:
Biomedizinische Technik/Biomedical Engineering
DOI:
10.1515/bmte.1994.39.s1.95
File:
PDF, 533 KB
german, 1994
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