Integration of Self-Assembled Porous Silica in Low-k/Cu...

Integration of Self-Assembled Porous Silica in Low-k/Cu Damascene Interconnects

S. Chikaki, M. Shimoyama, R. Yagi, Y. Shishida, T. Yoshino, T. Ono, N. Fujii, N. Hata, T. Nakayama, Y. Sonoda, Y. Seino, K. Kinoshita, T. Kikkawa

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Année:

2009

Langue:

english

DOI:

10.1143/JJAP.48.095002

Fichier:

PDF, 699 KB

english, 2009

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