Extension du procédé de dépôt de silicium par CVD en lit fluidisé à des conditions opératoires peu conventionnelles: dépôts sur poudres poreuses et/ou sous pression réduite
J.R. Rodriguez Ruvalcaba, B. Caussat, M. Hémati et J.P. CoudercVolume:
73
Year:
1999
Pages:
6
DOI:
10.1016/s1385-8947(99)00010-8
File:
PDF, 248 KB
1999