Ultrathin NO/N2O Oxynitride Dielectric For Advanced Flash Memory Application: Single Wafer and Batch Technology
Zonca, R., Crivelli, B., Polignano, M. L., Cazzaniga, F., Alessandri, M., Caricato, A. P., Bersani, M., Sbetti, M., Vanzetti, L., Xing, G. C., Miner, G. E., Astici, N., Kuppurao, S., Lopes, D., Nesso,Volume:
592
Language:
english
Journal:
MRS Proceedings
DOI:
10.1557/proc-592-141
Date:
January, 1999
File:
PDF, 1.87 MB
english, 1999