![](/img/cover-not-exists.png)
Thermally stable Ru-Si-O gate electrode for AlGaN/GaN HEMT
E. Kaminska, A. Piotrowska, A. Szczesny, A. Kuchuk, R. Lukasiewicz, K. Golaszewska, R. Kruszka, A. Barcz, R. Jakiela, E. Dynowska, A. Stonert, A. TurosVolume:
2
Year:
2005
Language:
english
Pages:
5
DOI:
10.1002/pssc.200460620
File:
PDF, 507 KB
english, 2005