Zur Bildung gasförmiger MCl2-Komplexe. Vergleichende Untersuchung zur Eignung von Al2Cl6, Ga2Cl6, In2Cl6, Fe2Cl6, SiCl4, TiCl4, PCl5, TaCl5 und U2Cl10 als Komplexbildner
Prof. Dr. Harald SchäferVolume:
479
Year:
1981
Pages:
8
DOI:
10.1002/zaac.19814790812
File:
PDF, 435 KB
1981