ChemInform Abstract: DIFFUSION VON PHOSPHOR UND BOR IN SILICIUM AUS DOTIERTEN SIO2-FILMEN
VIGDOROVICH, V. N., ZAVODYAN, A. V., BUDKEVICH, G. B.Volume:
4
Journal:
Chemischer Informationsdienst
DOI:
10.1002/chin.197302013
Date:
January, 1973
File:
PDF, 95 KB
1973