Etude de résines négatives sensibles aux électrons...

Revue de Physique Appliquée 1985 Vol. 20; Iss. 3

Etude de résines négatives sensibles aux électrons utilisées dans les procédés de microlithographie

Holil, B., Sagnes, R., Serre, B., Schué, F., Montginoul, C., Giral, L., Buiguez, F., Rosilio, C.
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Volume:
20
Year:
1985
Language:
french
Journal:
Revue de Physique Appliquée
DOI:
10.1051/rphysap:01985002003014300
File:
PDF, 1.03 MB
french, 1985
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