Ion mixing of Al2O3 and Al films on SiO2: A A Galuska et al, J Vac Sci Technol, A6, 1988, 185–192
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Volume:
39
Année:
1989
Langue:
english
DOI:
10.1016/0042-207x(89)90932-9
Fichier:
PDF, 158 KB
Vos balises:
english, 1989
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