A new model for the growth of silicon dioxide layers

Lu, Y. Z., Cheng, Y. C.

Наскільки Вам сподобалась ця книга?

Яка якість завантаженого файлу?

Скачайте книгу, щоб оцінити її якість

Яка якість скачаних файлів?

Том:

Рік:

1984

Мова:

english

Журнал:

Journal of Applied Physics

DOI:

10.1063/1.334145

Файл:

PDF, 614 KB

english, 1984

Виконується конвертація в

Конвертація в не вдалась