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SOI wafer flow process for stencil mask fabrication
J. Butschke, A. Ehrmann, B. Höfflinger, M. Irmscher, R. Käsmaier, F. Letzkus, H. Löschner, J. Mathuni, C. Reuter, C. Schomburg, R. SpringerVolume:
46
Year:
1999
Language:
english
Pages:
4
DOI:
10.1016/s0167-9317(99)00043-x
File:
PDF, 1.56 MB
english, 1999